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        鍍錫沉積速度緩慢的原因

        文字:[大][中][小] 手機頁面二維碼 2021-4-9     瀏覽次數:    

        鍍錫沉積速度緩慢的原因如下:

        光亮鍍錫溶液的主鹽是硫酸亞錫,主要是為其提供錫離子元素,其含量對鍍層和鍍錫中允許的電流密度有很大的影響,在允許的范圍內提高亞錫離子濃度,可以促使陰極電流密度的提高,這有利于提高鍍層的沉積速度,相應地生產效率也有所提升。但是,如果超過工藝規格的要求,在亞錫離子濃度過高或過低時,會對電鍍層質量產生以下不良影響:

        (1)含量過高時出現的主要癥狀:過高時,分散能力明顯降低,鍍層表面結晶粗糙,色澤暗淡;明亮區域的范圍會變窄,導致質量下降。

        (2)含量過低時出現的主要癥狀:過低時,允許的電流密度范圍明顯縮小,鍍層沉積速度很慢,相應地生產效率就會下降,鍍層極其容易燒焦。推測該故障是因為電流密度過大,但又考慮到鍍錫層表面并不粗糙,并且在電流密度變小之后,依然沒有發生變化,因此進行檢測分析。硫酸亞錫含量低于30g/L,檢測表明陽極鈍化,原來溶液中錫含量的下降是陽極鈍化引起的。進一步分析表明,陽極鈍化原是該陽極從異質錫自熔鑄造而成。因此,陽極錫頭回爐時應使用專用鍋,不能與其他金屬溶解鍋混合,應要仔細檢查,以免與錫、鎘、鉛、鋅等其他金屬混合。

        以上就是鍍錫沉積速度緩慢原因的介紹,更多信息可通過官網查看,感謝閱讀。

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